2.1 光學(xué)薄膜膜系設計與分析

該專(zhuān)題的培訓名稱(chēng)是《光學(xué)薄膜膜系設計與分析及Essential Macleod軟件使用》，歷時(shí)兩天，由上海光機所的齊紅基博士主講。其主要內容可分為以下三個(gè)方面：光學(xué)薄膜設計理論、Essential Macleod光學(xué)薄膜膜系設計分析軟件使用說(shuō)明和常規光學(xué)薄膜系統的設計。

Essential Macleod 是一套光學(xué)薄膜設計與分析軟件包，它包含光學(xué)薄膜設計和分析的所有要素：

1) 計算一個(gè)給定膜系的各種性能參數，包括常用的反射率、透過(guò)率、振幅和位相等;

2) 優(yōu)化已有膜系，提高其性能;對給定特性要求，導出其膜系設計;

3) 提取薄膜材料的光學(xué)常數;

4) 分析膜系特性，包括導納圖分析和電場(chǎng)分布分析等;

5) 估算膜層中隨機誤差對膜層光譜特性的影響;

6) 模擬光學(xué)鍍膜。

2.2 光學(xué)薄膜制備技術(shù)

該專(zhuān)題的名稱(chēng)是《鍍膜工藝基礎知識》，由中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所的周東平研究員講授，周東平研究員同時(shí)還是上海歐菲爾光電技術(shù)有限責任公司總經(jīng)理。周研究員從真空系統、制備技術(shù)、鍍膜工藝、薄膜材料、膜厚監控、電子槍和離子源的原理及其作用六個(gè)方面對光學(xué)薄膜制備技術(shù)進(jìn)行了詳細的講授。

在光學(xué)鍍膜中常用的真空泵有機械泵、分子泵、羅茨泵、油擴散泵和冷凝泵。分子泵和冷凝泵是半無(wú)油和無(wú)油系統，適合激光薄膜的鍍制，分子泵的抽速慢，冷凝泵抽速快但在直徑大于1100mm的真空系統中無(wú)法有效使用。油擴散泵如在抽氣口加裝polycold冷阱可實(shí)現高抽速的無(wú)油真空系統。

實(shí)用的真空系統，為保證抽速，管道應盡可能短粗;前級泵和次級泵的配置要合理;系統漏氣小;真空室內材料的放氣量要小;真空室要保持清潔。

除了大功率激光系統的減反膜由溶液凝膠(sol-gel)技術(shù)制備之外，光學(xué)薄膜真空鍍膜技術(shù)一般采用物理氣相沉積法(Physical vapor deposition)。PVD包括熱蒸發(fā)(Thermal Evaporation Deposition)、濺射(Plasma Sputtering Deposition)和離子鍍(Ion Beam Sputtering Deposition)。

熱蒸發(fā)(Thermal Evaporation Deposition)分為電阻加熱法(Resistive Heating)和電子槍蒸鍍法(Electron Beam Gun Evaporation)。電阻加熱時(shí)，蒸發(fā)舟(Boat)要與材料接觸良好，避免局部放熱引起分解和噴濺。

鍍膜的主要工藝因素有：基板處理(拋光、清潔、離子束預處理)、制備參數(基板溫度、沉積速率、真空度)、蒸汽入射角和老化處理。介質(zhì)膜的老化處理包括退火和激光預處理。

電子槍對膜層的成膜質(zhì)量和光譜特性有重要影響，

校準真空泵有效抽速，以獲得穩定的真空度。

校準溫度控制曲線(xiàn)，溫控儀的升溫過(guò)充要小，控制要平穩。

校準蒸發(fā)源蒸發(fā)特性，好的電子槍?xiě)搶?shí)現面源蒸發(fā)，能夠獲得穩定重復的蒸發(fā)條件。

光學(xué)膜厚控制儀的精度確認，膜厚控制儀的控制精度對成膜質(zhì)量和重復性有重要的影響。

薄膜的材料試驗，為獲得均勻均質(zhì)和接近化學(xué)計量比的薄膜，需要通過(guò)實(shí)驗來(lái)確定不同制備參數下材料的折射率和色散系數。

利用正投影法和比例法制備膜厚均勻性修正擋板。實(shí)驗的過(guò)程中需要特別考慮源的時(shí)變性和燈絲對膜厚均勻性的影響。

光學(xué)膜厚控制工具因子和石英晶振膜厚控制因子的確定。